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真空纳米镀膜工艺过程

时间:2019-03-28| 作者:Admin

真空纳米镀膜沉积过程分为三步: 

1.首先在真空条件下, 以120℃将固态粉末状的对二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加热汽化;

2.然后以650℃ 将气态的对二甲苯的二聚物 ,裂解为对二甲苯 (para-xylylene) 的 活性单体(monomer);

3.最后气态活性单体在室温下沉积并聚合成聚对二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

      当气态单体进入沉积腔室,首先会弥漫在工件表面,当吸附到各个表面后开始聚合和结晶,直接形成固体,避免了液相的出现,清除了厚度的不均匀和涂层的缺陷。(应用领域:LED行业、电子行业、医疗器械、印刷电路板、微电子、磁性行业、半导体、橡塑产品、文物保护、特殊领域)工能:绝缘强和耐高温,抗腐蚀、耐酸碱、润滑、防尘、防潮、透明、防水、抗老化。

真空纳米镀膜工艺流程图.jpg

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